沟槽

泛林推出全球首台钼原子层沉积设备 ALTUS Halo，已获美光等应用
月 21 日消息，半导体设备巨头泛林集团 Lam Research 美国加州当地时间 19 日宣布正式推出全球首型钼（Mo）原子层沉积（注：即ALD）设备 ALTUS Halo，该设备已在逻辑半导体和 3D…
Akara全球沟槽半导体电阻
fjmyhfvclm4天前
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新洁能授权代理 NCE0224AK N沟道增强型功率MOSFET
描述： NCE0224AK采用先进的沟槽技术和设计，提供出色的导通电阻（RDS(ON)）和低栅极电荷。完全表征的雪崩电压和电流具有高电场开启特性的良好稳定性和均匀性优秀的封装以实现良好的散热电源切换应…
栅极设计沟槽电源增强型
fjmyhfvclm12天前
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安徽弗西斯取得沟槽管件卡头铸造工装专利，方便处理覆膜砂
金融界2025年1月30日消息，国家知识产权局信息显示，安徽弗西斯机械科技有限公司取得一项名为“一种沟槽管件卡头覆膜砂铸造用工装”的专利，授权公告号CN 222403350 U，申请日期为 2023年12月…
显示西斯模板沟槽机构
fjmyhfvclm26天前
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泛林推出全球首台钼原子层沉积设备 ALTUS Halo，已获美光等应用